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Pikuz, T.; Faenov, A.*; Pirozhkov, A. S.; 錦野 将元; 長谷川 登; Esirkepov, T. Z.; 小瀧 秀行; 林 由紀雄; 小倉 浩一; Koga, J. K.; et al.
no journal, ,
We demonstrated that sub-micron resolution, high dynamic range LiF detectors, based on the formation under EUV and soft X-ray irradiation of optically active color centers, allowed applying a single shot imaging technique for characterizing relativistic high order harmonic beams, generated by an oscillating electron spikes formed in underdense gas jet plasma created by relativistically self-focusing laser pulses. The LiF film was used for near-field diffraction imaging of the HOH beam and investigation of its coherent properties. The focusability of the HOH beam was investigated using spherical Mo/Si mirror and LiF crystal. Using such technique the sizes and complexity of the HOH source structure have been measured.
赤羽 温; 小川 奏; 山川 考一
no journal, ,
光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA)を用いた高強度数サイクルレーザーシステムのポンプ光源として、低温冷却Yb:YLFチャープパルス増幅レーザーを開発している。開発ではこれまでに再生増幅器モードサイズの拡大、自己収束効果の抑制により再生増幅器のみの増幅で107mJの高エネルギー出力を達成した。出力光パルスはシード光のチャープレートを増加させることによりペデスタル等の時間波形歪み無しに2.2psまでパルス圧縮が可能である。さらに現在出力レーザーパルスの任意位相制御に着手しており、この制御位相制御されたレーザーパルスをポンプ光として用いることでOPCPA時のアイドラー光パルスの非直接的高次分散補償が可能になり、パルス伸張・圧縮に分散媒質のみを用いた数サイクル高強度レーザーシステムが実現可能になる。